1200系列三溫區真空管式爐LFT1200C 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，該設備設計為與手套箱對接使用，樣品可*處于相對對立的無水無氧環境

三溫區真空氣氛回轉爐CVD系統 是集三溫區真空回轉爐、三路質量流量計系統及低真空機組而成一種動態狀態下的化學氣相沉積系統。三溫區開啟式真空回轉管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

（含預熱器）雙溫區滑軌式CVD系統 雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備

LVU-10低真空系統 其極限真空度為10-1Pa， 內部安裝有雙級旋片機械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電阻真空計ZDR-I和連接管道接頭等。

MFC-5Z多通道質量流量控制系統 是一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節約空間。

2通道質量流量控制系統MFC-2Z 是一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節約空間。

LFM1200C-1微型箱式爐 是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，高溫度能達到1100℃，可連續工作1000℃，控溫精度±1℃；

LFM1400系列48L箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。側開門結構，方便客戶放取樣品；爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，高溫度能達到1500℃，可連續工作1400℃，控溫精度±1℃；